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  • 專利名稱(中文) / 導光板散射結構之佈點方法
  • 專利名稱(英文) /
  • 所屬單位(一級單位) / 工學院
  • 所屬單位(二級單位) / 精密工程研究所
  • 發明人(中文) / 韓斌
  • 發明人(英文) /
  • 申請國家 / 中華民國
  • 專利類型 / 發明
  • 專利證書號 / I443542
  • 技術成熟度 / 實驗室階段

一種導光板散射結構之佈點方法,主要是根據一導光板的一平均光出度決定一光出度目標範圍,然後畫分一導光板外表面形成數佈點區(X,Y),再依序比對每一佈點區(X,Y)的照度模擬值與光出度目標範圍,當照度模擬值不小於光出度目標範圍時,前述佈點區(X,Y)的佈點密度不變,當照度模擬值小於光出度目標範圍時,提升前述佈點區(X,Y)的密度。藉此,利用掃描方式逐漸遞增該等佈點區(X,Y)的佈點密度D(X,Y),進而能夠實現完全以自動化方式達到佈點的目的,不但精準、方便,且能夠獲得85%以上的照度均勻度,使視覺的輝度更趨於一致。


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