國立中興大學科研產業化平台

上一頁
  • 專利名稱(中文) / 程式化一相變化記憶胞的方法及相變化記憶體
  • 專利名稱(英文) /
  • 所屬單位(一級單位) / 工學院
  • 所屬單位(二級單位) / 材料科學與工程學系
  • 發明人(中文) / 何永鈞
  • 發明人(英文) /
  • 申請國家 / 中華民國
  • 專利類型 / 發明
  • 專利證書號 / I384663
  • 技術成熟度 / 實驗室階段

本發明提供一種程式化一相變化記憶胞的方法及一種相變化記憶體,可以提高操作效率。相變化記憶體包含複數相變化記憶胞及一寫入電路。每一相變化記憶胞包括一第一電極、一相變化材料層及一第二電極,相變化材料層與第一電極的接觸面積小於與第二電極的接觸面積。寫入電路經由相變化記憶胞中被選定的一者的第一及第二電極,施加一設定電流脈衝到相變化材料層,及施加一重設定壓脈衝到相變化材料層,其中,重設電壓脈衝使第一電極的電壓減去第二電極的電壓所得到的電壓差與相變化材料層的席貝克係數異號。


與我聯絡