- 專利名稱(中文) / 抗紫外光暨抗紅外光之多孔結構及其製造方法
- 專利名稱(英文) / ANTI-ULTRAVIOLET AND ANTI-INFRARED POROUS STRUCTURE AND METHOD THEREOF
- 所屬單位(一級單位) / 工學院
- 所屬單位(二級單位) / 化學工程學系
- 發明人(中文) / 楊宏達
- 發明人(英文) /
- 申請國家 / 中華民國
- 專利類型 / 發明
- 專利證書號 / I542906
- 技術成熟度 / 實驗室階段
本發明為一種抗紫外光暨抗紅外光之多孔結構及其製造方法,其中抗紫外光暨抗紅外光之多孔結構包含:一基材、一第一多孔性薄膜以及一第二多孔性薄膜。其中,第一多孔性薄膜設於基材上,且具有複數個第一孔洞。第二多孔性薄膜設於第一多孔性薄膜上,且具有複數個第二孔洞。藉此結構,可由雙層不同孔徑大小之三維規則多孔性薄膜,以選擇性地繞射紫外光波長範圍與近紅外光波長範圍之電磁波,進而只讓可見光穿透,達到抗紫外光及紅外光之功效。