- 專利名稱(中文) / 高分子薄膜、其製造方法及其應用之抗反射元件與感測元件
- 專利名稱(英文) /
- 所屬單位(一級單位) / 工學院
- 所屬單位(二級單位) / 化學工程學系
- 發明人(中文) / 楊宏達
- 發明人(英文) /
- 申請國家 / 中華民國
- 專利類型 / 發明
- 專利證書號 / I596144
- 技術成熟度 / 實驗室階段
本發明提供一種高分子薄膜的製造方法,包含提供基材、提供懸浮液、形成膠體懸浮物、進行自組裝步驟、形成一高分子單體層、進行聚合反應以及進行蝕刻步驟。經由前述步驟可形成高分子材料層於基材的表面上,其中高分子材料層的表面包含複數個凹孔,藉此可降低寬廣波長範圍之入射光反射率,並提高入射光穿透率。